术团队的指导、配合下，搭建优秀的团队，冲击下一代45n光刻机技术。
双方将共享知识产权。
这里需要说明一下光刻机的代差。上海微电子能做到90n那么研发65n光刻机就不难。真正的代差是45n技术。
当我们能够制造出45n光刻机，那么研发32n技术就不难。下一代的技术难题是22n
而一旦掌握22n光刻机制造技术，升级到14n不难。
综上，光刻机真正的技术代差应该是：90n45n22n7n
上海微电子的董事长吴天裕将井高一行送到公司大楼门口，握手道别前，还在和井高聊着技术话题，“井总，其实国内的芯片需求，只要我们能造出22n光刻机即可满足。到这一步，西方就不可能再禁售。那样吃亏的是他们。我们公司的02专项，就是向国家和人民承诺，要在2020年制造出22n光刻机。”
井高微笑着他握手，道：“肯定能搞出来的。光刻胶方面，吴总有什么建议？”
“这是日本企业的强项。井总可以考虑和他们进行一定的合作。”
井高若有所思的点点头，坐车离开。
吴天裕目送井高的车队离去，心里倒是有点诧异，感慨难言。他是国企的老总，是有级别的人。但是在井高这种身家千亿的老板面前，底气还是略显不足的。
要知道，井高几次在上海公开的行程中，都是市里的领导陪同、招待。<...
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